Yli kolmesataa staattisen sähkön asiantuntijaa tai aiheesta kiinnostunutta henkilöä kokoontui 3.- 8.10.2010 EOS/ESD Symposiumiin Nevadan Reno Sparksissa. Tilaisuudessa nähtiin 61 korkeatasoista esitystä, jotka oli jaettu 14 aihealueeseen ja kahteen rinnakkaiseen tapahtumaan. Suosituimmat esitykset liittyvät perinteitä noudattaen piiritason ESD suojaukseen, mutta jo vuosia vähemmälle huomiolle jäänyt tehdas- ja materiaalitason esitykset saivat nekin vahvan jalansijan rinnakkaisesityksissä.
Osallistuin symposiumiin ensimmäistä kertaa samanaikaisesti teknisen ohjelmakomitean jäsenenä, mentorina ja artikkelin [1] kirjoittajana sekä esiintyjänä. Cascade Metrology Oy:n lisäksi Suomea edusti Pasi K. Tamminen Nokia Oyj:stä. Pasi toi esiin ansioituneesti lopputuotteen valmistajan näkökulmaa mm. Human-Metal-Model (HMM) ja systeemitason työryhmissä. Lisäksi hän osallistui aktiivisesti ”Industrial Council on ESD target levels” työhön ja kokouksiin.
Charvaka Duvvury (Texas Instruments) esitteli lyhyesti työryhmän white paper III (Part I) dokumentin systeemitason suojauksen yleisistä väärinkäsityksistä ja suosituksista. Paperi on tällä hetkellä viimeistelyä vaille valmis ja ESDA tulee julkaisemaan sen omilla sivuillaan. Dokumentista editoidaan mahdollisesti myös JEDEC versio.
Symposium on tärkeä kansainvälinen verkostoitumistapahtuma, sen koulutuksellista arvoa vähättelemättä. Suosittelen lämpimästi ESDA:n jäsenyyttä ja materiaaliin tutustumista aiheesta kiinnostuneille. Symposiumissa on laadukkaiden esitysten, työryhmien ja näyttelyiden lisäksi tarjolla koulutusta staattisen sähkön hallintaan ”basic”, ”intermediate” ja ”advanced” tasoilla. Seuraava tilaisuus järjestetään Anaheimissa Kaliforniassa 11.–16. syyskuuta 2011.
[1] Toni Viheriäkoski, Cascade Metrology; Matti Laajaniemi, Seppo Niemelä, Nokia Siemens Networks; Jukka Hillberg, IonPhasE Oy; PasiTamminen, NOKIA Corporation ”Characterizing Slowly Dissipative Materials” 32nd EOS/ESD Symposium 2010
Staattinen sähkö ja ESD 